萬物皆生，其中一定有好的，但也有壞的，我們的紫外試驗箱也是如此。近年來，由于市場壓力，設備的性能不斷提高。紫外線循環、水分循環和加熱系統是最好的證明。

       據說，在學習的過程中，我們必須取其優勢，不斷改進。是的，在生產紫外試驗箱的過程中，我們經常從祖先的方法中學習，但我們不會復制原件。我們將添加我們自己的想法，就像我們增強了水分循環功能一樣，隨著溫度的升高，濕度對材料的破壞力會急劇上升。因此，在濕曝光過程中，溫度控制是最近的要求。此外，為了產生加速效果，需要在濕曝光過程中保持高溫環境。在設備冷凝過程中，溫度可設置在40℃至60℃之間的任何一點。紫外線循環一級的光化學反應對溫度變化不敏感。二次反應的速度與溫度變化密切相關。一般來說，隨著溫度的升高，反應速度會加快。因此，在紫外線曝光試驗過程中，溫度控制將加速試驗中使用的最高溫度與材料在實際應用中遇到的溫度相匹配。UV在設備中的溫度設置從50℃到80℃的任何一點都取決于光照度水平和室內環境溫度。設備的溫度調節通過一系列系統完成，如空氣加熱器、水加熱器等具有微機計算功能的控制器。

       如果我們不努力工作，我們就不會成功。今天，我們的紫外試驗箱依靠前輩的知識積累，這已經是我們自己的想法。因此，我們必須在前進的道路上不斷學習。只有在學習過程中取其精華，去其糟粕，我們才能成功。